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                MPCVD設備


                所屬分類:

                第三代半導體工藝設備


                概要:

                ? 微波等離子化學氣相沉積技術(MPCVD) , 通過等離子增加前驅體的反應速率,降低反應溫度。適合制備面積大、均勻性好、純度高、結晶形態好的高質量的金剛石單晶和多晶薄膜


                關鍵詞:

                MPCVD



                MPCVD設備


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                SiC高溫氧化設備

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