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                • SiC高溫退火爐.1.jpg

                SiC高溫退火設備


                所屬分類:

                第三代半導體工藝設備

                第一代半導體工藝設備


                概要:

                ? 專門用于硅碳化合物(SiC) 的離子激活和退火處理,可實現SiC片在高溫真空環境下完成活性工藝 ? 設備適用于SiC基功率器件制造中的離子激活和退火工藝環節 ? 加熱腔與工藝腔獨立密閉設計,提供工藝腔的潔凈度


                關鍵詞:

                SiC高溫退火



                SiC高溫退火設備


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