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              1. 山東力冠微電子裝備

                產品展示


                氮化鎵(GaN)HVPE單晶生長設備 臥式

                ? 用于氮化鎵(GaN)單晶生長 ? 用于氧化鎵(Ga?O?)、氮化鋁(AIN)、磷化銦(InP)、砷化鎵(GaAs)外延生長

                氮化鎵(GaN)HVPE單晶生長設備 立式

                ? 用于氮化鎵(GaN)單晶生長 ? 用于氧化鎵(Ga?O?)、氮化鋁(AIN)、磷化銦(InP)、砷化鎵(GaAs)外延生長

                PVT單晶生長設備

                ? 本設備主要用于碳化硅(SiC) 、氮化鋁(AIN) 單晶生長

                SiC籽晶粘接設備

                ? 籽晶的粘接工藝技術是將SiC籽晶通過有機膠粘接在石墨紙上,提高籽晶粘接質量是保證高品質SiC晶體生長的首要前提。

                MPCVD設備

                ? 微波等離子化學氣相沉積技術(MPCVD) , 通過等離子增加前驅體的反應速率,降低反應溫度。適合制備面積大、均勻性好、純度高、結晶形態好的高質量的金剛石單晶和多晶薄膜

                SiC高溫氧化設備

                ? 專門用于硅碳化合物(SiC) 的氧化處理,可實現SiC片在高溫真空環境下完成高溫氧化工藝。氧化工藝使用濕法氧化氣體或N2O、NO、NO2,是最安全的毒性氣體氧化爐 ? 設備適用于SiC基功率器件制造中的高溫氧化工藝環節 ? 加熱腔與工藝腔獨立密閉設計,提供工藝腔的潔凈度

                SiC高溫退火設備

                ? 專門用于硅碳化合物(SiC) 的離子激活和退火處理,可實現SiC片在高溫真空環境下完成活性工藝 ? 設備適用于SiC基功率器件制造中的離子激活和退火工藝環節 ? 加熱腔與工藝腔獨立密閉設計,提供工藝腔的潔凈度

                坩堝下降設備

                ◆ 主要用于4-8英寸砷化鎵、磷化銦等化合物單晶生長 ◆ 設備由機架、安部支撐機構、加熱器和控制系統組成 ◆ 能夠實現安移動和轉動的精確控制

                LPCVD 臥式

                ? LPCVD設備是半導體集成電路制造的重要設備之一, 主要用于多晶硅、氮化硅、氧化硅薄膜的生長,它是將原材料氣體(或者液態源氣化)用熱能激活發生化學反應而在基片表面生成固體薄膜,LPCVD過程是在低壓下進行的,由于氣壓低,氣體分子平均自由程大,使生長的薄膜均勻性好,此外基片可以豎放使得設備裝片量大,特別適用于工業化生產

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